卷镀产能介绍
设备采用国内先进的卷绕镀膜设备，镀膜最大宽幅1300mm，最大卷径600mm,14条磁控溅射靶，分布在六个镀膜工艺室内，腔室之间采用精密隔气，可实现同时电镀多种工艺镀层，进而实现制作产能高，成本低的一种镀膜产品。
镀膜原理：
磁控溅射，基本原理是充氩(Ar)气的真空条件下，使氩气进行辉光放电，这时氩(Ar)原子电离成氩离子(Ar+)，氩离子在电场力以及磁场磁力线的作用下，加速轰击以镀料制作的阴极靶材，靶材会被溅射出来而沉积到工件表面,主要采用DC溅射以及MF溅射。
适合膜系：
适合0.05-0.3mm柔性薄膜，适合电镀350nm以内的光学膜，金属膜，高亮NCVM，主要应用于手机后盖，家电，汽车类装饰件膜片。
设备数量以及产能：
JP-1300光学卷镀机：2台;   产能根据膜厚不同500-1000 ㎡/day/台