磁控溅射是物理气相沉积的一种，一般的溅射法可被用于制备金属、半导体、绝缘体、等多材料，具备简单、易于控制 、镀膜面积大和附着力强等优点。
各种金属膜/非导电膜系/光学厚膜系/高亮银/红金膜，按照5.5寸为标准的日产能。
根据客户要求及色板镀各种透过率的金属膜（如：透过率为0%-88%的Cr、 Al、Ni、NI/Cr 等） 。
根据客户要求及色板镀各种透过率的NCVM膜。
磁控溅射连续线线体更改，攻克了光学厚膜层精密控制技术各种颜色膜系。
高亮银可生产透过率5度以下、膜厚120以上的产品，30分钟一架，预计日产能11K。
红金膜可生产透过率60到80、膜厚60到120的产品，10分钟一架，预计日产能31K。
根据客户的需求及色板调试各种颜色膜。
语言
151-5817-6029
